低溫恒(héng)溫反應浴(yù)采用低(dī)噪(zào)聲(shēng)全(quán)封閉壓縮機組,配合(hé)低(dī)溫製(zhì)冷(lěng)劑(jì)提供快速(sù)製冷(lěng)控製,采用(yòng)高(gāo)功(gōng)率(shuài)加熱模塊提供加熱(rè)控製(zhì),根據目標溫度值利(lì)用模糊推(tuī)理(lǐ),PID算法等(děng)實(shí)現(xiàn)恒溫控製(zhì)。采(cǎi)用(yòng)軸式攪拌(bàn)裝置,同時可(kě)提供(gōng)內外(wài)循環,使溫度(dù)均匀並(bìng)提供(gōng)第二恒溫(wēn)場。
低(dī)溫恒溫反應浴高效(xiào)快(kuài)速(sù)為科研(yán)實驗,生(shēng)產(chǎn)製造等領(lǐng)域(yù)提(tí)供高精(jīng)度恒(héng)溫(wēn),保溫環境(jìng),可(kě)擴展第二(èr)恒溫,保(bǎo)溫環境(jìng),可被廣泛應用於(yú)物理學(xué),生物(wù)學(xué),醫(yī)學(xué),化學(xué),動(dòng)物(wù)學,法醫(yī)鑒定(dìng),食品(pǐn)保健(jiàn)品等行業(yè)。
本機采(cǎi)用(yòng)低(dī)噪(zào)聲(shēng)風冷(lěng)式全封閉(bì)壓縮(suō)機,製冷迅速,溫度(dù)穩定性強。
工(gōng)業(yè)嵌(qiàn)入式操(cāo)作(zuò)係統,ARM核心控製電路設計(jì),快(kuài)速(sù)響(xiǎng)應操(cāo)作。
準(zhǔn)確的(dí)溫(wēn)度(dù)控製算(suàn)法(fǎ),集成A級溫度傳(chuán)感器,采(cǎi)用模糊(hū)推(tuī)理PID算法(fǎ)。
內(nèi)外(wài)雙循環(huán)係統(tǒng),可(kě)建立(lì)第(dì)二恒溫場,或(huò)作(zuò)為冷源(yuán)為機外試(shì)驗容器降溫(wēn)。
集成(chéng)過熱,過電(diàn)流(liú)保(bǎo)護,溫(wēn)度上(shàng)下限(xiàn)提醒等保護係統。
真(zhēn)彩觸(chù)摸屏控製係統,操作簡單方(fāng)便,功能強大(dà)。
配(pèi)有打(dǎ)印機(jī),可即(jí)時打印(yìn)實(shí)驗數(shù)據。
| 型號 | LD-H06係(xì)列(liè) | LD-H10係列 | LD-H15係(xì)列(liè) | LD-H20係列 | LD-H30係列(liè) |
| 容(róng)積 | 6 L | 10 L | 15 L | 20 L | 30 L |